Metāla silīcija ražošanas process galvenokārt ietver šādas darbības:
1. Silīcija dioksīds (smiltis) un ogleklis tika izkausēti līdz 98% elektriskā loka krāsnī, veidojot rūpniecisko silīciju, kas reaģēja kā SiO2 + C → Si + CO2.
2. Lai apmierinātu pusvadītāju kategorijas augstas tīrības prasības, ir nepieciešama turpmāka attīrīšana. Rūpnieciskais silīcijs tika pulverizēts un reaģēts ar bezūdeņraža Cl (HCl) verdošā gultnē, veidojot trihidrosilīciju (SiHCl). Ķīmiskā reakcija bija Si + HCl → SiHCl + H2.
3. Pamatojoties uz to, ir nepieciešama turpmāka attīrīšana, un pēc virknes ķīmiskās atdalīšanas un attīrīšanas procesu, lai noņemtu dažus elektroaktīvos piemaisījumus, oglekļa un pārejas elementu piemaisījumus, SiHCl3 tīrība var atbilst pusvadītāju kvalitātes standarta prasībām un ķīmiskajai reakcijai. ir SiHCl3 + H2 → Si + HCl.
Izmantojot iepriekš minēto procesa tehnoloģiju, mēs varam ražot augstas tīrības pakāpes silīcija Si-HCl 3, Si-H2Cl 2 un augstas tīrības pakāpes silīcija Si-Cl 4.
Kā uzņēmums, kas specializējas metāla silīcija ražošanā, mēs piegādājam metāla silīciju ne tikai stingri ievērojot ražošanas procesu, bet arī lai nodrošinātu, ka metāla silīcija kvalitāte ir ļoti laba.
Please contact email jennywu@ns-ferroalloy.com or mobile +86 166 3835 9670 for specific quote!
